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AJA磁控溅射系统 Magnetron Sputtering System

  • 经济型台式磁控溅射系统

    经济型台式磁控溅射系统

    经济型台式溅射系统

     

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  • ATC ORION系列 磁控溅射系统

    ATC ORION系列 磁控溅射系统

    腔体尺寸:10", 12"和14" Ø | 高真空和超高真空结构 | 溅射靶尺寸:1.5", 2" 和 3" | 样品台尺寸:6" Ø | 基片温度范围:LN2-1000°C | 预真空室/Load lock |基片片盒cassettes | 自动传样 | 计算机控制 | 定制化系统 | 远远优于台式系统  

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  • ATC FLAGSHIP旗舰系列 磁控溅射系统

    ATC FLAGSHIP旗舰系列  磁控溅射系统

    腔室尺寸:18" - 34" | 高真空和超高真空结构 |溅射靶尺寸:1" - 12"  | 原位偏转溅射靶 | 基片最大尺寸8"  | 基片cassette | 内置掩膜交换系统 | 预真空室load lock | 自动传样 | 计算机控制 | 定制化系统

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  • ATC-B系列 批量镀膜系统

    ATC-B系列 批量镀膜系统

    圆柱型或柜式腔体 | 选配load-lock&cassette | 圆形,三角形或线性溅射靶 | 集成液压升降或铰链腔门 | 单层,多层膜或共沉积 | 按应用配置

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  • AJA磁控溅射靶 超高真空&高真空

    AJA磁控溅射靶 超高真空&高真空

    工作于平衡磁控状态  | 最大化靶材利用率 | 进行高或低溅射速率  | 工作于多种非平衡磁控态 | 进行均匀性或者有意为之的不均匀性沉积 | 到达基片表面的高或低电子能量 | 溅射较厚的磁性靶材  | 方便更换或拆卸磁性靶材

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